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DRAM-Peri FinFET - A Thermally-Stable High-Performance Advanced CMOS RMG Platform with Mo-Based Pwfm for Sub-10Nm DRAM
J. Ganguly, Hiroaki Arimura, Romain Ritzenthaler, H. Bana, J. W. Maes, J. G. Lai,S. Brus, W. Maqsood, R. Sarkar, B. Kannan,Elena Capogreco,V. Machkaoutsan, S. Yoon,Alessio Spessot,M. Givens,Naoto Horiguchi
Symposium on VLSI Technologypp.1-2, (2024)
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Demonstration of Cavity Capacitor for Advanced Nanosheet Gate Stack Study
Camila Cavalcante,H. Arimura,Y. Oniki,F. Sebaai,E. Capogreco,L-A. Ragnarsson,B.T. Chan,A. Hikavyy,H. Mertens,K. Vandersmissen,E. Dentoni Litta, S. Subramanian,S. Biesemans,N. Horiguchi
Extended Abstracts of the 2023 International Conference on Solid State Devices and Materials (2023)
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FinFETs with Thermally Stable RMG Gate Stack for Future DRAM Peripheral Circuits
E. Capogreco,H. Arimura,R. Ritzenthaler,S. Brus,Y. Oniki,E. Dupuy,F. Sebaai,D. Radisic,B. T. Chan,D. Zhou,V. Machkaoutsan, S. Yoon, H. Itokawa, M. Yamaguchi, Z. Gao,P. Fazan,Y. Chen,S. Subramanian, L. A. Ragnarsson,A. Spessot,E. Dentoni Litta
2022 INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING, IEDMpp.26.2.1-26.2.4, (2022)
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