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论文共 4 篇作者统计合作学者相似作者
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Takeshi Nogami,J A Maniscalco,Anita Madan,P Flaitz,P Dehaven,C Parks,L Tai,B St Lawrence,R Davis,Robert C Murphy,T Shaw, Sander M Z Cohen,C K Hu,C Cabral,S Chiang,J Kelly,Mary Zaitz, J Schmatz,Sujin Choi,K Tsumura,C D Penny,H C Chen, D Canaperi,Tuan Vo, F Ito,Oscar Van Der Straten,Andrew H Simon,S H Rhee,B Y Kim,T Bolom,V Ryan,P Ma,J Ren,J Aubuchon, Jason H Fine,P Kozlowski, T Spooner,Daniel C Edelstein
Eric Solecky,Chas Archie,Matthew Sendelbach,Ron Fiege,Mary Zaitz, Dmitriy Shneyder, Carlos Strocchia-rivera, Andres Munoz,Srinivasan Rangarajan,William Muth,Andrew Brendler,Bill Banke,Bernd Schulz,Carsten Hartig,Jon-Tobias Hoeft,Alok Vaid,Mark Kelling,Benjamin Bunday,John Allgair
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXIII SPIE Proceedings (2009)
作者统计
#Papers: 4
#Citation: 51
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G-Index: 3
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