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38th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2023) (2023)
ADVANCED ETCH TECHNOLOGY AND PROCESS INTEGRATION FOR NANOPATTERNING XI (2022)
Michael Kubis,Rich Wise,Charlotte Chahine,Katja Viatkina,Samee Ur-Rehman, Geert Simons,Mircea Dusa,David Hellin,Daniel Sobieski, Wenzhe Zhang,Christiane Jehoul,Patrick Jaenen,Philippe Leray
Ofir Montal,Ido Dolev, Moshe Rosenzweig,Kfir Dotan,Doron Meshulach,Ofer Adan,Shimon Levi,Manping Cai,Chris Bencher, Christopher S Ngai,Christiane Jehoul,Dieter Van Den Heuvel,Eric Hendrickx
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