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Gate-Last I/O Transistors Based on Stacked Gate-All-Around Nanosheet Architecture for Advanced Logic Technologies
M. Bhuiyan,M. Kim, H. Zhou, H. Lo,S. Siddiqui,M. Stolfi,T. Guarini,R. Pujari, E. Davey, E. Stuckert, J. Li, A. Chou,K. Zhao,M. Wang,D. Guo,B. Colombeau,N. Loubet,B. Haran,H. Bu
2021 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM) (2021)
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Enabling Next Generation CMOS by Novel EOT Scaling Module
L. Dong,S. Hung,M. Bevan,P. Jamison,J. Zhang,H. Zhou,B. Colombeau,R. Curtis, J. Devrajan,R. Bao, R. George,M. Kim, K. Karandikar,M. Stolfi,N. Loubet,J. Swenberg,T. Guarini, L. Wang, Y. Yan, V. Banthia, S. Kuppurao, B. Haran,S. Natarajan
Symposium on VLSI Technology (2021)
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Materials Technology Co-Optimization of Self-Aligned Gate Contact for Advanced CMOS Technology Nodes
A. Pal, J. Ferrell,A. Sachid,E. M. Bazizi, D. Cui, A. Wang,M. Cogorno,A. Bhatnagar, N. Ingle, Y. Xu,W. Lei,Y. Lei, A. Gelatos, T. H. Ha, K. Kashefizadeh, S. M. Seutter, T. E. Sato, B. Brown, K. Mikhaylichenko, C. Lee, N. Fung, W. Xu, M. Kawasaki, T. Luu, P. Wang,B. Colombeau,B. Alexander, D. Hwang,S. Natarajan, B. Ayyagari
2020 IEEE SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY（2020）
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FinFET IO Device Performance Gain with Heated Implantation
T. Y. Wen, C. Li, M. S. Hsieh, S. H. Tsai,P. K. Hsieh, S. H. Lin, H. T. Chiang,N. H. Yang,J. Y. Wu,B. N. Guo,B. Colombeau, H-J Gossmann,Y. Zhang, H. Meer,K. H. Shim,M. Hou,S. Lee, Jeff Kuo,D. Liao
2018 22ND INTERNATIONAL CONFERENCE ON ION IMPLANTATION TECHNOLOGY (IIT 2018)pp.106-109, (2018)
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