研究兴趣

论文共 42 篇作者统计合作学者相似作者

按年份排序按引用量排序主题筛选期刊级别筛选合作者筛选合作机构筛选
时间
引用量
主题
期刊级别
合作者
合作机构
High-NA EUV Mask Pattern Characterization Using Advanced Mask CD-SEM Metrology
Joost Bekaert, Balakumar Baskaran,Lieve Van Look,Joern-Holger Franke,Vicky Philipsen,Ardavan Niroomand,Eric Hendrickx, Hideaki Komami, Tatsuro Okawa,Soichi Shida, Shinichi Kojima,Toshimichi Iwai
39th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2024) (2024)
引用0浏览0引用
0
0
Extending EUV Lithography for DRAM Applications
Gijsbert Rispens,Claire Van Lare,Dorothe Oorschot,Rik Hoefnagels, Shih-Hsiang Liu, Willem Van Mierlo, Nadia Zuurbier, Zoi Dardani,Ziyang Wang,Mark John Maslow,Jo Finders,Roberto Fallica,Andreas Frommhold,Eric Hendrickx,Ardavan Niroomand, Scott Light
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XI (2020)
引用2浏览0引用
2
0
Opc Model Building For Euv Lithography
Benjamin C. P. Ho, Jonathan Doebler,Ardavan Niroomand
INTERNATIONAL CONFERENCE ON EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2019 (2019)
引用0浏览0引用
0
0
加载更多
作者统计

#Papers: 42

#Citation: 925

H-Index: 23

G-Index: 29

Sociability: 5

Diversity: 1

Activity: 0

  • 合作者
  • 学生
  • 导师
暂无相似学者，你可以通过学者研究领域进行搜索筛选
数据免责声明
页面数据均来自互联网公开来源、合作出版商和通过AI技术自动分析结果，我们不对页面数据的有效性、准确性、正确性、可靠性、完整性和及时性做出任何承诺和保证。若有疑问，可以通过电子邮件方式联系我们：report@aminer.cn