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Plasma Atomic Layer Etching of Ruthenium by Oxygen Adsorption-Removal Cyclic Process
Doo San Kim, Hae In Kwon,Yun Jong Jang,Gyoung Chan Kim,Hong Seong Gil, Dae Whan Kim,Byeong Hwa Jeong, Geun Young Yeom
Applied Surface Science (2024): 160570
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Effect of Cl2 Radical on Dry Development of Spin-Coated Metal Oxide Resist
Soo Namgoong,Hee Ju Kim,Yeo Kyung Kang, Min Cheol Kim,Yun Jong Jang,Hyunwoo Tak,Ji Eun Kang,Sun Jin Lee,Myung-Gil Kim, Dongwoo Kim,Geun Young Yeom
ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACESno. 38 (2024): 51690-51698
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Anisotropic/Isotropic Atomic Layer Etching of Metals
Doo San Kim,Ju Eun Kim,You Jung Gill,Yun Jong Jang,Ye Eun Kim,Kyong Nam Kim, Geun Young Yeom,Dong Woo Kim
APPLIED SCIENCE AND CONVERGENCE TECHNOLOGYno. 3 (2020): 41-49
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