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EUV SRAFs Printing Modeling with Bright Field Mask
Chih-I Wei,Azat Latypov,Shuling Wang, Satya Sriram, Prakash Deep,Yunfei Deng,Ethan Maguire,Shumay Shang,Germain Fenger,Werner Gillijns
Photomask Japan 2022 XXVIII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology (2022)
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Machine Learning Based Error Classification for Curvilinear Designs
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DTCO AND COMPUTATIONAL PATTERNING (2022)
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Stochastic Model Prediction of Pattern-Failure
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Process Window-Based Feature And Die Failure Rate Prediction
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DESIGN-PROCESS-TECHNOLOGY CO-OPTIMIZATION FOR MANUFACTURABILITY XIII (2019)
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