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Lithographic Performance of an Environmentally Stable Chemically Amplified Photoresist (ESCAP)
W Conley,G Breyta, B Brunsvold, R DePietro,D Hofer,S Holmes, H Ito,R Nunes,G Fichtl,P Hagerty,J Thackeray
Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE (1996)
引用36浏览0引用
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0
The Viability Of Conventional High Na Krp Imaging For Sub-0.25u Lithography
T Farrell,R Nunes,R Campbell, P Hoh,D Samuels, J Kirk,W Conley, J Iba,T Shibata
OPTICAL MICROLITHOGRAPHY IX (1996): 46-53
引用4浏览0引用
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Further Improvements in CGR Formulation and Process
W BRUNSVOLD,W CONLEY,J GELORME,R NUNES,R SOORIYAKUMARAN,S HOLMES,J STURTEVANT
ADVANCES IN RESIST TECHNOLOGY AND PROCESSING XI (1994): 329-340
引用6浏览0引用
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#Papers: 6

#Citation: 66

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