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Nearly Anhydrous Undissociated Hf for the Removal of Hf/Ta/Zr Based Polymers after Plasma Etch, Selectively to Aluminum
M. Cazes,L. Broussous,P. Garnier,C. Pizzetti,L. Gabette,P. Besson
15TH INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON SEMICONDUCTOR CLEANING SCIENCE AND TECHNOLOGY (SCST 15)no. 2 (2017): 199-209
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Copper Seed Layer Wet Etching for 3D Integration
L. Gabette,R. Kachtouli,R. Segaud,P. Besson
Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society CD-ROM)no. 29 (2013): 2068-2068
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Si and Sige Alloys Wet Etching Using Tmah Chemistry
V. Loup,L. Gabette,M. C. Roure,R. Kachtouli,M. Jourdan,P. Besson,S. Petitdidier
Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society CD-ROM)no. 30 (2013): 2101-2101
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Gold Wet Etch Optimization on 200mm Substrates for Mems Applications
L. Gabette,R. Segaud,S. Fadloun,X. Avale,P. Besson
Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society CD-ROM)no. 24 (2009): 2096-2096
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