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Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE (2008)
mag(2007)
引用26浏览0引用
26
0
PHOTOMASK TECHNOLOGY 2006, PTS 1 AND 2 (2006)
Patrick K Montgomery,R D Peters,Cesar M Garza,Jonathan L Cobb, Bill Darlington,Colita Parker, Stan Filipiak,Danny Babbitt
Advances in Resist Technology and Processing XXII, Pt 1 and 2 (2005): 1024-1033
Optical Microlithography XVIII (2005)
BS Kasprowicz,W Conley, YM Ham, MJ Cangemi,N Morgana,R Cottle,CJ Progler,W Wu,LC Litt,J Cobb,B Roman
Optical Microlithography XVIII (2005)
Lloyd C Litt,Will Conley,Wei Wu, R E Peters,Colita Parker,Jonathan L Cobb,Bryan S Kasprowicz,Doug Van Den Broeke, Jong Chul Park,Ramkumar Karurshanmugam
PROCEEDINGS OF THE SOCIETY OF PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS (SPIE) (2005): 1459-1468
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