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Assessing Plasma-Etched InP Laser Facet Quality
Tristan T. Burman,Zhongming Cao,Craig Allford,Jack Baker,Jash Patel,Huma Ashraf,Samuel Shutts,Peter M. Smowton
IEEE PHOTONICS TECHNOLOGY LETTERSno. 11 (2024): 745-748
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Advances in High-Aspect-Ratio Deep Reactive Ion Etching of 4H-Silicon Carbide Wafers
Ningxin Li,Zhenming Liu,Ardalan Lotfi, Xinyu Jiang, Emma Long, Shubham S. Sahasrabudhe,Chris Bolton,Huma Ashraf,Farrokh Ayazi
JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS (2024)
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Demonstrating SiC <i>in Situ</i> Rounded Trench Processing Technologies for Future Power Trench MOSFET Applications
Ben Jones, Alex Croot, Jacob J. Mitchell,Chris Bolton, Jonathan Evans,Finn Monaghan,Kevin Riddell,Michael Jennings,Owen Guy,Huma Ashraf
Diffusion and defect data, solid state data Part B, Solid state phenomena/Solid state phenomena (2024): 163-170
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WAFER-LEVEL HIGH-ASPECT-RATIO DEEP REACTIVE ION ETCHING OF 4H-SILICON CARBIDE ON INSULATOR SUBSTRATES
Ardalan Lotfi, Micheal Hardin,Zhenming Liu, Alex Wood,Chris Bolton, Kevin Riddell,Huma Ashraf, Joanne Carpenter,Farrokh Ayazi
2022 Solid-State, Actuators, and Microsystems Workshop Technical Digest (2022)
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