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Journal of micro-nanopatterning, materials, and metrologyno. 04 (2023)
E. Morvan,Y. Gobil, F. Morisot, J. Biscarat, M. Charles,J. Lugo,A. Divay, M. Medbouhi,I. Charlet,J. Delprato,P. Scheiblin,B. Rrustemi,A. Giry,A. Serhan,S. Ruel,P. Pimenta-Barros,F. Laulagnet,S. Minoret,A. Anotta, T. Billon,B. Duriez
2023 International Electron Devices Meeting (IEDM)pp.1-4, (2023)
G. Bourgeois,V. Meli, R. Antonelli,C. Socquet-Clerc,T. Magis,F. Laulagnet,B. Hemard, M. Bernard, L. Fellouh, P. Dezest, J. Krawczyk, S. Dominguez, F. Baudin,J. Garrione,C. Pellissier,J. -A. Dallery,N. Castellani,M. -C. Cyrille,C. Charpin,F. Andrieu, G. Navarro
2023 7TH IEEE ELECTRON DEVICES TECHNOLOGY & MANUFACTURING CONFERENCE, EDTM (2023)
E. Esmanhotto,L. Brunet,N. Castellani, D. Bonnet,T. Dalgaty,L. Grenouillet, D. R. B. Ly,C. Cagli,C. Vizioz,N. Allouti,F. Laulagnet, O. Gully, N. Bernard-Henriques,M. Bocquet,G. Molas,P. Vivet,D. Querlioz,J. M. Portal,S. Mitra,F. Andrieu,C. Fenouillet-Beranger,E. Nowak,E. Vianello
PHOTOMASK TECHNOLOGY 2020 (2020)
作者统计
#Papers: 9
#Citation: 42
H-Index: 3
G-Index: 4
Sociability: 4
Diversity: 2
Activity: 6
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合作机构
D-Core
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