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Optimization of Area Selective Barrier on Different Metal Interconnects
Linda Wangoh,Andrew Simon, Matthew Shoudy
2024 35TH ANNUAL SEMI ADVANCED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CONFERENCE, ASMCpp.1-4, (2024)
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Evaluation of different metal preclean conditions for MOL for 2nm and beyond: Topic/category: AEPM : Advanced Equipment Processes and Materials
Samuel Munnangi,Andrew Simon,Oscar Van der Straten, Rishi Krishnan,Shahab Siddiqui, Matthew Shoudy
2024 35th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC)pp.01-04, (2024)
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Impact of Nanosecond Laser Anneal on PVD Ru Films
D. Sil,Y. Sulehria,O. Gluschenkov,T. Nogami, R. Cornell,A. Simon, J. Li,J. Demarest,B. Haran,C. Lavoie,J. Jordan-Sweet,V Stanic, J. Liu,K. Huet,F. Mazzamuto
2021 IEEE International Interconnect Technology Conference (IITC) (2021)
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