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Nozzle assembly for applying a liquid to a substrate
Anatol Schwersenz, Werner Saule, Andreas Noring,Peter Dress,Christian Burgel,Martin Tschinkl, Marlene Strobl
mag（2008）
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Template Manufacturing for Nanoimprint Lithography Using Existing Infrastructure
Mathias Irmscher,Joerg Butschke,Guenter Hess,Florian Letzkus,Markus Renno,Holger Sailer, Hubert Schulz,Anatol Schwersenz,Ecron Thompson, Boris Vratzov
Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE (2005)
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Patterning Performance of Most Recent E-Beam-sensitive CARs for Advanced Mask Making: an Update
A Schwersenz,J Butschke,A Feicke,M Irmscher,P Voehringer
Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE (2004)
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Comparison Of New Film Nozzle With Standard Nozzle For Aqueous Puddle Develop Of Photomasks
Christian Buergel, Werner Saule, Marlene Strobl,Peter Dress,Anatol Schwersenz,Martin Tschinkl
PHOTOMASK AND NEXT-GENERATION LITHOGRAPHY MASK TECHNOLOGY X (2003): 213-219
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