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EUV Scatterometry: Low-Dose Characterization of Polymer-Based Metamaterials
Nicholas W. Jenkins,Yuka Esashi, Yunzhe Shao,Michael Tanksalvala,Henry C. Kapteyn,Margaret M. Murnane, Matthew Atkinson
METROLOGY, INSPECTION, AND PROCESS CONTROL XXXVIII (2024)
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Multi-Modal Extreme-Ultraviolet Reflectometer: Solving Inverse Problems in Nanostructure Metrology
Yunzhe Shao,Nicholas W. Jenkins, Clay Klein, Yunhao Li,Yuka Esashi,Margaret M. Murnane,Henry C. Kapteyn,Michael Tanksalvala
2024 IEEE Conference on Computational Imaging Using Synthetic Apertures (CISA)pp.1-5, (2024)
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