致力于为“未来芯片”提供核心材料和物理基础，主要方向为新型人工量子材料的界面调控与多自由度表征。利用先进物理气相沉积技术（off-axis sputter，laser-MBE）实现材料的原子级构筑，利用依托同步辐射等大科学装置的先进X-射线谱学技术（XAS/XLD/XMCD，RIXS，IXS等）实现晶格-电荷-轨道-自旋的多自由度表征，进而推动原型量子器件的发展。