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Removal Mechanism of Tungsten Cmp Process: Effect of Slurry Abrasive Concentration and Process Temperature
Zhefu Wang, Rixin Peng,Sherry Xia,Tomohiko Kitajima,Stan Tsai
Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society CD-ROM)no. 28 (2011): 1971-1971
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CMP Process for Phase Change Materials
Feng Q Liu,Chenhao Ge,Kun Xu, Mengqi Ye,Yuchun Wang,Yufei Chen,Sherry Xia,Alain Duboust,Wen-Chiang Tu,Lakshmanan Karuppiah
Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society CD-ROM)no. 16 (2009): 741-741
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