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论文共 32 篇作者统计合作学者相似作者

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Advanced Development Techniques for Extreme-Tight Pitch Patterning
Hikari Tomori, Cong Que Dinh, Seiji Nagahara, Kanzo Kato,Shinichiro Kawakami, Yuhei Kuwahara,Soichiro Okada, Kayoko Cho, Junji Nakamura, Syuuya Yamasaki, Shoichi Terada, Makoto Muramatsu,Alexandra Krawicz, Kathleen Mcinerney, Nathan Antonovich, Lior Huli
JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGYno. 3 (2024): 245-250
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Latest Advances in EUV Patterning for Preparation of High Numerical Aperture EUV
Soichiro Okada, Arnaud Dauendrffer,Yuhei Kuwahara,Cong Que Dinh, Ken Ando, Atsushi Tsuboi,Kathleen Nafus, Nobuyuki Fukui,Philippe Foubert,Danilo D. Simone
Advances in Patterning Materials and Processes XLI (2024)
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Holistic litho-etch approach towards high NA EUV challenges
Soichiro Okada,Arnaud Dauendorffer,Yuhei Kuwahara,Satoru Shimura,Philippe Foubert,Danilo De Simone,Cong Que Dinh, Ken Ando, Atsushi Tsuboi, Nobuyuki Fukui,Arame Thiam,Yannick Feurprier,Kathleen Nafus
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2023 (2023)
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Advanced development for contact-holes of metal-oxide resists
Cong Que Dinh,Seiji Nagahara,Kanzo Kato,Shinichiro Kawakami,Yuhei Kuwahara,Soichiro Okada, Kayoko Cho, Hikari Tomori, Junji Nakamura, Shoichi Terada,Makoto Muramatsu,Alexandra Krawicz, Kathleen McInerney,Nathan Antonovich,Lior Huli
INTERNATIONAL CONFERENCE ON EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2023 (2023)
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#Citation: 77

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