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Dry Etch Damage in Widegap Semiconductor Materials
S.J. Pearton,R.J. Shul
Defects in Optoelectronic Materialspp.87-143, (2022)
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Method and apparatus for producing group-iii nitrdes
Substrate,J. C. Zolper,R. J. Shul,A. G. Baca, R. G. Wilson, S. J. Pearton
semanticscholar（2017）
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Patents Patent Method and apparatus for producing group-III nitrides
R. J. Shul, R. G. Wilson, S. J. Pearton,R. A Stall, S. Strite, G. B. Gao, Yu. V. Melnik,K. V. Vassilevski, P. Nikitina, Babanin, V. Yu, V. A Dmitriev
semanticscholar（2016）
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High Precision Fabrication of Polarization Insensitive Resonant Grating Filters
R. R. Boye,D. W. Peters,J. R. Wendt,S. Samora,J. Stevens,R. J. Shul,J. Hunker,R. A. Kellogg,S. A. Kemme
Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE (2012)
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Inductively Coupled Plasma Etching of InP with Cl2/H2/Ar Plasma
Erica Douglas, J Stevens,R. J. Shul,S. J. Pearton
ECS Meeting Abstractsno. 39 (2012): 2924-2924
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