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Designing EUV negative tone resist and underlayer approaches exhibiting 14nm half-pitch resolution
Luong Nguyen Dang,Li-Ting Tseng, Anil Rajak, Thomas Gädda,Markus Laukkanen, Jagadish Salunke, Shima Moosakkani,Jyri Paulasaari,Juha Rantala,Michaela Vockenhuber,Dimitrios Kazazis,Yasin Ekinci
Advances in Patterning Materials and Processes XLI (2024)
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New Resist and Underlayer Approaches Toward EUV Lithography
Juha Rantala, Thomas Gadda,Markus Laukkanen,Nguyen Dang Luong, Kimmo Karaste,Dimitrios Kazazis,Yasin Ekinci
INTERNATIONAL CONFERENCE ON EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2018 (2018)
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#Citation: 2017

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