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Designing EUV negative tone resist and underlayer approaches exhibiting 14nm half-pitch resolution
Luong Nguyen Dang,Li-Ting Tseng, Anil Rajak, Thomas Gädda,Markus Laukkanen, Jagadish Salunke, Shima Moosakkani,Jyri Paulasaari,Juha Rantala,Michaela Vockenhuber,Dimitrios Kazazis,Yasin Ekinci
Advances in Patterning Materials and Processes XLI (2024)
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Heterometallic Ti-Zr Oxo Nanocluster Photoresists for Advanced Lithography
Yang Qiao, Guangyue Shi, Ou Zhang, You Li,Michaela Vockenhuber,Yasin Ekinci,Feng Luo,Lei Zhang
Science China Materialspp.1-10, (2024)
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