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Curvilinear Mask Process Correction Embedded on Multi-Beam Mask Writer
Noriaki Nakayamada,Haruyuki Nomura,Yasuo Kato,Kenichi Yasui,Abhishek Shendre,Nagesh Shirali,Yukihiro Masuda, Aki Fujimurab
JOURNAL OF MICRO-NANOPATTERNING MATERIALS AND METROLOGY-JM3no. 1 (2024)
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Recent Progress of Multi-Beam Mask Writer MBM-3000
Issei Aibara,Hiroshi Matsumoto, Jumpei Yasuda,Ken-ichi Yasui,Tomoo Motosugi,Hayato Kimura, Michihiro Kawaguchi,Yoshinori Kojima, Masato Saito,Noriaki Nakayamada
39th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2024) (2024)
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GPU-accelerated Inline Linearity Correction: Pixel-Level Dose Correction (PLDC) for the MBM-1000
Harold Zable, Hironobu Matsumoto,Kenichi Yasui,Ryosuke Ueba,Noriaki Nakayamada,Nagesh Shirali,Yukihiro Masuda,Ryan Pearman,Aki Fujimura
Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE (2017)
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#Citation: 32

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