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mag(2011)
引用29浏览0引用
29
0
SPIE Proceedings Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XVI (2009)
mag(2009)
引用83浏览0引用
83
0
Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE (2009)
F. Sundermann,F. Foussadier,T. Takigawa,J. Wiley, A. Vacca,L. Depre, G. Chen,S. Bai,J-S Wang, R. Howell, V. Arnoux, K. Hayano,S. Narukawa, S. Kawashima, H. Mohri,N. Hayashi, H. Miyashita,Y. Trouiller,F. Robert,F. Vautrin,G. Kerrien,J. Planchot,C. Martinelli, J. L. Di-Maria,V. Farys, B. Vandewalle,L. Perraud,J. C. Le Denmat,A. Villaret,C. Gardin,E. Yesilada, M. Saied
MICROLITHOGRAPHY WORLDno. 4 (2005): 14-17
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