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Necking Reduction at Low Temperature in Aspect Ratio Etching of SiO2 at CF4/H2/Ar Plasma
Hee-Tae Kwon,In-Young Bang, Jae-Hyeon Kim, Hyeon-Jo Kim, Seong-Yong Lim,Seo-Yeon Kim, Seong-Hee Cho,Ji-Hwan Kim,Woo-Jae Kim,Gi-Won Shin,Gi-Chung Kwon
Nanomaterials (Basel, Switzerland)no. 2 (2024): 209
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Necking Reduction at Low Temperature in Aspect Ratio Etching of SiO2 at CF4/H2/Ar Plasma
Hee-Tae Kwon,In-Young Bang, Jae-Hyeon Kim, Hyeon-Jo Kim, Seong-Yong Lim, Seo-Yeon Kim, Seong-Hee Cho,Ji-Hwan Kim,Woo-Jae Kim,Gi-Won Shin,Gi-Chung Kwon
Nanomaterialsno. 2 (2024): 209
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