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LITHOGRAPHIC APPARATUS, FLUID COMBINING UNIT AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Johannes Catharinus Hubertus Mulkens,Matthew Lipson,Harry Sewell,Louis Markoya
mag（2012）
引用23浏览0引用
23
0
FLUID HANDLING DEVICE, AN IMMERSION LITHOGRAPHIC APPARATUS AND A DEVICE MANUFACTURING METHOD
Harry Sewell, Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Louis Markoya,Diane Mccafferty, Ralph Joseph Meijers
mag（2010）
引用24浏览0引用
24
0
IMMERSION LITHOGRAPHIC APPARATUS WITH IMMERSION FLUID RE-CIRCULATING SYSTEM
Harry Sewell, Erik Roelof Loopstra, Johannes Catharinus Hubertus Mulkens,Louis Markoya,Diane Mccafferty
mag（2009）
引用24浏览0引用
24
0
Re-flow and buffer system for immersion lithography
Harry Sewell,Erik Theodorus Maria Bijlaart, Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Louis Markoya,Diane Mccafferty, Ralph Joseph Meijers
mag（2009）
引用25浏览0引用
25
0
High-n immersion lithography
Harry Sewell,Jan Mulkens,Paul Graeupner,Diane Mccafferty,Louis Markoya, Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders, Rogier Hendrikus Magdalena Cortie, Ralph Joseph Meijers,Fabrizio Evangelista, Nandarisi Samarakone
Proceedings of SPIE（2008）
引用4浏览0引用
4
0
Lithographic apparatus, a dryer and a method of removing liquid from a surface
Martinus Hendrikus Antonius Leenders, Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Harry Sewell,Louis Markoya, Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen,Diane Mccafferty
mag（2008）
引用29浏览0引用
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