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P. Dinesh Suresh, V. Kumar, R. Sripriya
S Chakraborty, BC Meikap, JR Du, L Liu,A Chakma, X Feng,B Schuur,JGM Winkelman, JG de Vries,K Garny, TR Neu, H Horn,F Volke,EJ Freydell, Y Bulsink, S van Hateren, L van der Wielen,M Eppink,M Ottens, D Yoon,S Paek, SH Kim,KR Kim, X Zhang, G Hu, G Orkoulas,PD Christofides,H Kruggel-Emden,S Rickelt,F Stepanek, F Bougie, MC Iliuta, P Tandon, A Heibel, J Whitmore, N Kekre, CK Chen, CY Tai, OO Oyekola, RP van Hille,A Busciglio,G Vella,G Micale,L Rizzuti, S Balaji, V Garcia-Osorio,B Erik Ydstie, PR Sislian, J Rau,D Pham, M Li,L Mädler, Y He, CW Hui,K Pougatch,M Salcudean,J McMillan
Chemical Engineering Scienceno. 16 (2010)
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