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Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXII (2018)
David Jayez,Alok Vaid,Eric Solecky,Michael Lenahan,Dhairya Dixit, Charles Largo, Georgios Vakas, Steve Seipp
Michael Lenahan,Alok Vaid,Sridhar Mahendrakar,Steven Seipp, David Jayez, Alice Yueh,Shweta Saxena,Eric Solecky, Samuel Gizzi, Amir Heller, Tianhao Zhang,Da Song,Nam Hee Yoon,Janay Camp,Kartik Venkataraman
crossref(2015)
Introduction to Metrology Applications in IC Manufacturingpp.109-123, (2015)
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