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研究方向
等离子体技术应用;低温等离子体材料表面改性;等离子体合成新材料;等离子体增强气相沉积各种金属、半导体等单质薄膜及氮化物、碳化物、氧化物等各种硬质和功能化合物薄膜;气相沉积薄膜生长机理;等离子体在线诊断技术。
等离子体技术应用;低温等离子体材料表面改性;等离子体合成新材料;等离子体增强气相沉积各种金属、半导体等单质薄膜及氮化物、碳化物、氧化物等各种硬质和功能化合物薄膜;气相沉积薄膜生长机理;等离子体在线诊断技术。
研究兴趣
论文共 105 篇作者统计合作学者相似作者
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时间
引用量
主题
期刊级别
合作者
合作机构
Vacuum (2023): 112254-112254
APPLIED SURFACE SCIENCE (2022): 153508-153508
CERAMICS INTERNATIONALno. 9 (2022): 12924-12931
PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGYno. 4 (2022)
Research Square (Research Square) (2021)
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