基本信息
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个人简介
主要研究方向:
主要从事强激光诱导光学材料损伤行为与内在机制研究、光学材料痕量缺陷精密检测技术研究以及光学材料功能化先进修饰与处理技术研究。
主要研究成果:
建立了熔石英、KDP晶体的激光损伤测试标准;基于光学材料表面缺陷精细表征技术揭示了熔石英的紫外激光诱导损伤机制,并提出了熔石英材料功能性损伤前驱的控制指标及检测方法,对显著提升强激光作用下紫外光学材料的抗损伤性能具有重要意义。以第一作者和通讯作者身份在Optics Express、Optics Letters、Nanomaterials等高水平SCI期刊上发表文章5篇,发表SCI论文总量近40篇;获国家发明专利6项,军队科技进步奖3项。
研究兴趣
论文共 114 篇作者统计合作学者相似作者
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合作机构
Changpeng Li,Ke Yang, Zhuo Zhang, Yuejie Qian,Taixiang Liu,Hongwei Yan,Jin Huang, Lin Yao,Yinbo Zheng,Xiaodong Jiang,Wanguo Zheng
OPTICS EXPRESSno. 6 (2024): 8638-8656
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