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在清言上使用

Achieving Ultra-Low Contact Barriers in MX2/SiH (M = Nb, Ta; X = S, Se) Metal-Semiconductor Heterostructures: First-Principles Prediction

Son T. Nguyen,Chuong V. Nguyen,Huynh V. Phuc,Nguyen N. Hieu, Cuong Q. Nguyen

NANOSCALE ADVANCES(2024)

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