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Water Soluble Resist for Deep-UV (193 nm) Lithography based on a Chitosan Biopolymer

Olha Sysova,Paule Durin,Corinne Gablin,Didier Léonard,Alexandre Téolis,Stéphane Trombotto,Thierry Delair,Dominique Berling,Isabelle Servin,Raluca Tiron,Arnaud Bazin,Jean Louis Leclercq,Yann Chevolot,Olivier Soppera

HAL (Le Centre pour la Communication Scientifique Directe)（2022）

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关键词
chitosan biopolymer,lithography,water soluble resist
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