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New bending mode in SAQP Si fins and its mitigation

Alfonso Sepulveda,David Hellin,Liping Zhang,Karine Kenis,Dmitry Batuk,Sylvain Baudot,Basoene Briggs,Tom Mountsier,Kathy Barla,Pierre Morin,Efrain Altamirano Sanchez

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING（2022）

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关键词

SAQP,finFET,CMOS scaling,FCVD,Fin bending,N7

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