Development Status of Gate-First FeFET Technology

S. Müller,H. Zhou, A. Benoist,J. Ocker, M. Noack, G. Kuzmanov, R. Iqbal, D. Le Minh, M. Ghazaryan, V. Anjaneyamoorthi, A. Daraghmah, M. Mennenga, F. Koushan, F. Tassan, S. Dünkel,J. Müller, S. Beyer, S. Soss, A. Pourkeramati

Symposium on VLSI Technology（2021）

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