直流反应溅射WO3薄膜的结构及光催化性能研究

采用直流反应磁控溅射法,在石英基片上沉积WO 3薄膜,考察了溅射参数对WO 3薄膜结构及其性能的影响,并通过后续热处理得到不同物相结构的薄膜,分析探讨薄膜光致变色与光催化性能间的内在关联.利用XRD、SEM、UV-Vis和UV-Vis-Nir分别对WO3薄膜的晶型、表面形貌、光学特征及光催化等性能进行分析与表征,实验结果表明,反应溅射氧氩比不同时,WO 3薄膜的光致变色效果不同,变色效果越好的薄膜光催化活性越高;热处理导致WO 3薄膜光致变色特性的消失和光催化活性的降低,未处理得到的非晶态WO 3具有最好的光催化活性.