UHPLC-QTOF-MS高效检测CL-20合成过程的杂质

为了快速准确检测和分析六硝基六氮杂异伍兹烷（CL-20）合成过程中产生的中间体和杂质，控制CL-20纯度或品质，保证其感度及爆轰性能，采用核磁共振（NMR）和超高高效液相色谱-四极杆飞行时间质谱（UHPLC-QTOF-MS）技术快速、高效分析检测了CL-20典型合成工艺过程中组分及杂质。结果表明，六苄基六氮杂异伍兹烷（HBIW）中的杂质为1，3-二苄基咪唑，四乙酰基二苄基六氮杂异伍兹烷（TADB）中的杂质为低酰基化的三乙酰基三苄基六氮杂异伍兹烷（TATB），四乙酰基六氮杂异伍兹烷（TAIW）中的杂质为未完全反应的TADB，CL-20中的杂质为未完全硝化的一乙酰基五硝基六氮杂异伍兹烷（MPIW）和二乙酰基四硝基六氮杂异伍兹烷（DATN）。这项工作将为不影响CL-20爆轰性能的前提下对其进行质量控制提供技术支持。