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Study of the Intrinsic Limitations of the Contact Resistance of Metal/Semiconductor Interfaces Through Atomistic Simulations

A. Dabral,G. Pourtois,K. Sankaran,W. Magnus,H. Yu,A. de Jamblinne de Meux,A. K. A. Lu,S. Clima,K. Stokbro,M. Schaekers,N. Collaert,N. Horiguchi,M. Houssa

ECS Transactions（2017）

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关键词
Metal-Semiconductor Contacts,Interdigitated Back Contacts
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