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OS1908 カソードルミネッセンスを用いたシリコン酸化膜の応力計測 : 電子線照射によるダメージの解析

信貴 五網,資大 生津, 直晃 山下,聡 市川, 庸行 中, 繁 柿沼, 健太郎 西方,啓介 吉木,尚三 井上

mag（2012）

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