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Driving the industry towards a consensus on high numerical aperture (high-NA) extreme ultraviolet (EUV)

Patrick A Kearney,O R Wood,Eric Hendrickx,Greg Mcintyre,Soichi Inoue,F E Goodwin,Stefan Wurm,Jan Van Schoot,Winfried Kaiser

Proceedings of SPIE（2014）

引用 8|浏览5

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关键词

High-NA EUV Lithography,3D mask effects,wafer field,mask size

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