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Printability and inspectability of defects on EUV blank for 2xnm hp HVM application

Sungmin Huh,Inyong Kang,Chang Young Jeong,Jihoon Na,Dong Ryul Lee,Hwanseok Seo, Seongsue Kim,Chanuk Jeon,Jonggul Doh,Gregg Inderhees,Jinho Ahn

Proceedings of SPIE（2012）

引用 2|浏览12

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关键词

EUV,mask,blank defect,mask inspection,blank inspection,fiducial mark

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