Improving CD Uniformity Using MB-MDP for 14nm Node and Beyond

Byung Gook Kim,Jin Choi,Jisoong Park,Chan Uk Jeon,Sterling Watson, Anthony Adamov, Bob Pack,Ingo Bork

SPIE Proceedings Photomask Technology 2012（2012）

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关键词

photomask,lithography,MB-MDP,CD uniformity,ILT

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