金属-铁电体-GaN结构研究

毕朝霞,张荣,李卫平,殷江,沈波,周玉刚,陈鹏,陈志忠,顾书林,施毅,刘治国,郑有炓

Pan Tao Ti Hsueh Pao/Chinese Journal of Semiconductors（2002）

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摘要

以铁电体Pb(Zr0.53Ti0.47)O3取代传统绝缘栅氧化物制备了GaN基金属-绝缘层-半导体(MIS)结构.由于铁电体具有较强的极化电场和高介电常数,GaN基金属-铁电体-半导体(MFS)结构的电容-电压特性与其他GaN基MIS结构相比较得到了显著的提高.GaN基MFS结构中GaN激活层达到反型时的偏压小于5V,这和硅基电子器件和集成电路的工作电压一致,而且结果表明GaN层的载流子浓度比其背景载流子浓度减小了一个数量级.因此,GaN基MFS结构对于GaN基场效应晶体管的实际应用具有重要的意义.

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关键词

GaN,MFS,MOCVD,PLD,PZT

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