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Impact of Vacuum Ultraviolet Photons on Ultrathin Polymethylmethacrylate During Plasma Etching
Shikhar Arvind,Esben W. Larsen,Philippe Bezard, John Petersen,Stefan De Gendt
Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Filmsno. 3 (2024)
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Material and Process Optimization for EUV Pattern Rectification by DSA
Lander Verstraete,Hyo Seon Suh, Julie Van Bel, Byeong-U Bak, Seong Eun Kim,Remi Vallat,Philippe Bezard,Matteo Beggiato,Christophe Beral
NOVEL PATTERNING TECHNOLOGIES 2024 (2024)
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Transient-assisted Plasma Etching (TAPE): Concept, Mechanism, and Prospects
Atefeh Fathzadeh,Philippe Bezard,Maxime Darnon, Inge Manders,Thierry Conard,Ilse Hoflijk,Frederic Lazzarino,Stefan de Gendt
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY Ano. 3 (2024)
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Where to Apply Sustainability Optimizations in Process Flows
Konstantina Filippidou,Philippe Bezard, I-Yun Liu, Cedric Rolin,Frederic Lazzarino, Lars-Ake Ragnarsson
ADVANCED ETCH TECHNOLOGY AND PROCESS INTEGRATION FOR NANOPATTERNING XIII (2024)
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