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Etching of Iridium Thin Films in Chlorine- and Fluorine-Based Inductively Coupled Plasmas
Juliano Borges,Hongwen Yan,Devi Koty,Sophia Rogalskyj,Lynne Gignac, Leonidas Ocola,Marinus Hopstaken, Steve Molis, Andrew Simon,John Arnold,Jeffrey Shearer,Robert L. Bruce
ADVANCED ETCH TECHNOLOGY AND PROCESS INTEGRATION FOR NANOPATTERNING XIII (2024)
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A Novel Chalcogenide Based CuGeSe Selector Only Memory (SOM) for 3D Xpoint and 3D Vertical Memory Applications
Wei-Chih Chien, J. X. Zheng, C. W. Yeh,Lynne M. Gignac, H. Y. Cheng, Z. L. Liu, Alexander Grun, C. L. Sung,E. K. Lai, S. Cheng, C. W. Cheng,L. Buzi, A. Ray, Douglas M. Bishop,Robert L. Bruce,M. J. BrightSky, H. L. Lung
Symposium on VLSI Technologypp.1-2, (2024)
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A GexSe1-x Switch-Only-memory Technology Through Polarized Atomic Distribution
Zhi-Lun Liu, Alexander Grun,Wei-Chih Chien,Asit Ray,Erh-Kun Lai,I-Ting Kuo,Lynne Gignac,Christian Lavoie,Matt BrightSky, Hsiang-Lan Lung,Huai-Yu Cheng
Scientific reportsno. 1 (2024): 22115-22115
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Device Study on OTS-PCM for Persistent Memory Application
W. C. Chien,L. M. Gignac, Y. C. Chou,C. H. Yang,N. Gong,H. Y. Ho,C. W. Yeh,H. Y. Cheng,W. Kim,I. T. Kuo,E. K. Lai,C. W. Cheng,L. Buzi, A. Ray, C. S. Hsu,D. Daudelin, R. L. Bruce,M. BrightSky,H. L. Lung
6TH IEEE ELECTRON DEVICES TECHNOLOGY AND MANUFACTURING CONFERENCE (EDTM 2022)pp.327-329, (2022)
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