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Improved 20nm Device Yield and Gate Dielectric Integrity with Optimized Aluminum Metal Fill Process
David Williams,Clint Bordelon, Sergei Drizlikh,Paul D. Kirsch, Kin-Sang Lam, Paul Coppala, Ian Guerassio, Nikhil Bharat Hira, Steven Trigno, Paul Nester, Ryan Paulsen,Anuj Patel, Jun-Han Kim, Jungmin Park, Taegyun Kim,Hee Sung Kang,Jinho Seo, Chulwan An, Sunjong Wang
2016 27TH ANNUAL SEMI ADVANCED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CONFERENCE (ASMC)（2016）
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A Novel Design-Based Global Cdu Metrology for 1x Nm Node Logic Devices
Young-Keun Yoon,Dong Hoon Chung,Min-Ho Kim,Jung-Uk Seo,Byung-Gook Kim,Chan-Uk Jeon,JiUk Hur,Wonil Cho,Tetsuya Yamamoto
Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE (2013)
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