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EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) LITHOGRAPHY XIno. 11323 (2020)
Extreme Ultraviolet Lithography 2020 (2020)
Photomask Japan 2019 XXVI Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology (2019)
Herman Bekman, Michael Dekker,Rob Ebeling,Jochem Janssen,Norbert Koster, Joop Meijlink,Freek Molkenboer, Kyri Nicolai,Michel Van Putten,Corne Rijnsent,Arnold Storm,Jetske Stortelder,Chien-Ching Wu,Rory De Zanger
INTERNATIONAL CONFERENCE ON EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2019 (2019)
Chien-Ching Wu,Edwin te Sligte,Herman Bekman,Arnold J. Storm,Michel van Putten, Maurice P. M. A. Limpens,Jacqueline van Veldhoven,Alex Deutz
Proceedings of SPIE (2018)
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#Papers: 7
#Citation: 24
H-Index: 3
G-Index: 4
Sociability: 4
Diversity: 0
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