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Residuals Reduction in Imaging-Based Overlay using Color per Layer
Katz Shlomit,Suk Won Park, Joonsang You,Hyunjun Kim,Honggoo Lee,Jungchan Kim,Dongyoung Lee, Hongbok Yeon,Joonseuk Lee,Sang-Ho Lee, Jae Wook Seo, Yehuda Dor, Junho Kim, Hongcheon Yang,Dohwa Lee,Nanglyeom Oh,Dongsub Choi,Wayne Zhou,Hedvi Spielberg,Ohad Bachar
METROLOGY, INSPECTION, AND PROCESS CONTROL XXXVII (2023)
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Qualification of small alignment mark by on-product overlay performance
Jigang Ma, Frans Bijnen, Edo Hulsebos,Lukasz Macht, Sotirios Tsiachris, Jin Dai, Rob van der Meulen, Miao Yu,Paul Bocker,Jung-Hwan Kim, Hyun Kim,Gwang-Gon Kim,Joon-Seuk Lee,Eung-Ryong Oh, Hong-Bok Yeon, Young-Deuk Kim,Seung-Uk Jeong,Sang-Ho Lee,Chan-Ha Park
OPTICAL MICROLITHOGRAPHY XXXIV (2021)
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