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在清言上使用

Band-bending Analysis of Metal-Oxide-Semiconductor (MOS) Interface by In Situ Biasing Electron Holography.

Y Fukushima, D Mori, Y Terao, K Yamamoto,A Takigawa

Microscopy and microanalysis : the official journal of Microscopy Society of America, Microbeam Analysis Society, Microscopical Society of Canada(2023)

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