1009 高圧雰囲気対応型CMP装置によるSiCウエハの加工特性 : 酸化剤添加MnO_2スラリーを用いたSiCウエハのC面とSi面それぞれの加工特性(生産加工・工作機械2,設計工学・システム)周平 黒河,俊郎 土肥,修 大西,洋二 松川,努 山崎,涛 尹mag(2013)引用 23|浏览7暂无评分关键词slurry,high pressureAI 理解论文溯源树样例生成溯源树,研究论文发展脉络Chat Paper正在生成论文摘要