不同抛光及上釉方法对牙科陶瓷表面粗糙度的影响

目的用多个参数评价不同表面粗糙度及上釉方法对陶瓷上釉后表面光洁度的影响,为临床修复体的制作提供可参考的依据。方法制作盘状烤瓷试件100个,随机分为5组(A、B、C、D、E组),每组各20个,在注水条件下分别用碳化硅砂纸逐级打磨至220#、320#、600#、800#和1200#,各组再随机分为2亚组,每亚组10个,分别进行釉瓷上釉和自身上釉。上釉前、后分别测量表面粗糙度参数轮廓算术平均偏差(Ra)、轮廓的最大高度(Rz)、轮廓单元的平均宽度(RSm)以及粗糙度的最大峰值(Rp),并用扫描电镜定性分析表面形貌。结果打磨至220#的陶瓷上釉后表面Ra最大[釉瓷上釉为(0.532±0.109)μm、自身上釉(0.552±0.123)μm],打磨至1200#的陶瓷上釉后表面Ra最小[釉瓷上釉为(0.201±0.050)μm、自身上釉(0.126±0.016)μm],两种上釉方法都能获得光滑的上釉表面。结论上釉前的抛光处理以及不同上釉方法对上釉效果产生显著影响。