ZL114A微弧氧化膜层的耐蚀性能研究
Hot Working Technology（2017）
摘要
采用磷酸盐与硅酸盐复合电解液体系,对ZL114A进行微弧氧化处理.所采用的微弧氧化工艺为:恒流±3A,400Hz,占空比±50％,氧化时间60 min.所得的膜层厚度30～35μm.利用扫描电镜对膜层形貌及结构进行观察,利用XRD衍射仪对膜层的相成分进行分析,采用极化曲线评价膜层的耐蚀性能.结果表明:膜层的耐蚀性能与膜层中大量存在的α-Al2O3有关,经微弧氧化后,ZL114A表现出了良好的耐蚀性.
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